化学沉淀PbS光导薄膜响应均匀性的改进  

Improvement of respond uniformity of chemical deposited PbS photoconductive film

作　　者：司俊杰[1] 万海林[1] 陈湘伟[1] 陈凤金[1] 黄战利[1] 张庆军[1] 孙维国[1] 

机构地区：[1]中国空空导弹研究院光电器件研究所,河南洛阳471009

出　　处：《红外与激光工程》2006年第z5期123-126,共4页Infrared and Laser Engineering

摘　　要：对化学沉淀法制备的 PbS 薄膜,通过优化沉淀方法、敏化过程,改善了 PbS 薄膜成分和形貌的均匀性。由改进后的薄膜所制备的光导 PbS 探测器,在大尺度(25 mm)光敏元尺寸下,光电响应的不均匀性由改进前的±50%减小为±25%。It is shown uniformity improvement of chemical deposited PbS film in composition and morphology after optimizing deposition and photosensitization process.An infrared photoconductive detector using the improved PbS film shows non-uniformity reduction from 50% to 25%.

关 键 词：红外探测器 PBS 光电响应 均匀性 

分 类 号：TN214[电子电信—物理电子学]