光电响应

作品数:150被引量:432H指数:11
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基于mist CVD的高纯相α-Ga_(2)O_(3)生长与光电响应特性研究
《人工晶体学报》2025年第2期233-243,共11页姚苏昊 张茂林 季学强 杨莉莉 李山 郭宇锋 唐为华 
国家重点研发计划(2022YFB3605404);国家自然科学基金联合项目(U23A20349);江苏省双创人才团队项目(JSSCTD202351)。
超宽禁带半导体氧化镓(Ga_(2)O_(3))在功率电子和信息传感方面有重要应用,其高效、经济的制备方法是实现产业推广的重要环节。本文报道了一种Sn辅助雾相化学气相沉积(mist CVD)技术,基于这种非真空、低成本方法在c面蓝宝石衬底上成功外...
关键词:α-Ga_(2)O_(3) 雾相化学气相沉积 Sn辅助生长 光电响应 沉积温度 掺杂激活 
基于二苯并吩嗪衍生物受体的D-A型聚合物的制备与应用研究
《功能材料》2024年第12期12007-12015,共9页段美琳 闫雨琪 白兰 武超 曹宇 李敏 李洁 王华 赵建文 梁学磊 
国家自然科学基金(62074109,51991341);国家自然科学基金联合基金(U21A20492,U21A6004);山西省自然科学基金(20210302123144,20210302123113);中国山西省留学基金委员会(2021-057);中国博士后科学基金第74批面上资助(2023M742559)。
共轭聚合物(CPs)包裹的半导体单壁碳纳米管(s-SWCNT)可作为薄膜晶体管(TFT)中的沟道材料,并且具有高电荷迁移率和良好的光电响应特性,在人工智能中显示出巨大的发展潜力。通过改变二苯并吩嗪衍生物与咔唑的连接位点,构建了两种不同主链...
关键词:共轭聚合物 薄膜晶体管 电荷迁移率 光电响应 二苯并吩嗪衍生物 
石墨烯纳米卷的各向异性光响应
《中国激光》2024年第18期300-308,共9页尹煜 刘朝贵 张书涵 周雷 刘安航 万晨宇 汪海潮 江涛 黄迪 王占山 程鑫彬 
国家自然科学基金(62305249,62175188,61925504,6201101335,62020106009,62192770,62192772,61621001);上海市科学与技术委员会项目(23190712300,23ZR1465800);中央高校基本科研业务费专项资金(13702150100)。
单层石墨烯独特的能带结构赋予了其宽谱响应、高迁移率、超快响应等优异特性,这使得其在光电技术领域备受关注。然而,石墨烯具有高对称性,缺乏各向异性的光响应,这一点限制了其在偏振探测、量子通信、光学传感等领域的应用。本课题组利...
关键词:石墨烯纳米卷 各向异性 拉曼 二次谐波 光电响应 
砷化镓纳米结中光电响应的第一性原理计算模拟
《上海大学学报(自然科学版)》2024年第4期751-757,共7页曹睿 陈竞哲 
国家自然科学基金资助项目(11404206)。
作为常见的高迁移率直接带隙半导体,砷化镓(gallium arsenide,GaAs)的光电响应性质一直是学界研究的焦点.针对特殊结构半导体器件的光电响应方式理论上研究一般采用宏观有限元方法结合半经典理论的模拟.随着器件尺寸的小型化,微观结构...
关键词:砷化镓 纳米结 非平衡态格林函数 化学掺杂 栅极电压 
Fe和Cu杂质对Si材料响应特性影响的对比分析
《光电子.激光》2024年第6期623-630,共8页吕彤 张蓉竹 
针对Si中容易混入Fe杂质和Cu杂质的问题,根据第一性原理和光电响应理论,建立了两种杂质混入下的Si模型,比较了不同间隙位置的杂质原子对Si材料的能级结构及响应特性的影响。结果表明:两种杂质的混入均会导致Si材料能级结构发生变化,从而...
关键词:Cu杂质 Fe杂质 Si半导体 第一性原理 光电响应 
常见点缺陷对硅光电池响应特性的影响
《半导体光电》2024年第2期200-205,共6页杨映红 张蓉竹 
研究了硅光电池中常见点缺陷对器件在激光辐照下的响应特性的影响。根据第一性原理建立了晶胞模型,比较了空位缺陷以及含Fe,Cu杂质状态下硅材料的态密度图,在此基础上分析了常见点缺陷对硅光电池响应特性的影响。由于半导体材料对温度敏...
关键词:硅光电池 光电响应 空位缺陷 金属杂质 第一性原理 
利用Li^(+)插层调控WS_(2)光电器件响应性能研究
《物理学报》2023年第22期26-36,共11页宋雨心 李玉琦 王凌寒 张晓兰 王冲 王钦生 
国家重点研发计划(批准号:2020YFA0308800,2022YFA1206600);国家自然科学基金(批准号:12074036);北京市自然科学基金(批准号:Z190006)资助的课题。
过渡金属硫族化合物由于其具有独特的结构和性质,在光电子学、纳米电子学、储能器件、电催化等领域具有广泛的应用前景,是一类被持续关注的代表性二维层状材料.在材料应用过程中,对材料掺杂特性的调控会极大地改变器件的响应性能.因而,...
关键词:WS_(2) 离子插层 光电响应 掺杂调控 
本征点缺陷对硅材料响应特性的影响分析
《光学学报》2023年第21期229-236,共8页吕彤 张蓉竹 
针对硅基材料在1319 nm激光辐照下产生带外响应的问题,研究了硅材料中的本征点缺陷对响应特性的影响。根据第一性原理建立了晶胞模型,比较了几种典型点缺陷状态下硅材料的能级分布特性,在此基础上分析了本征点缺陷对硅材料光电响应特性...
关键词:材料 单晶硅 光电响应 本征点缺陷 第一性原理 
2023全国智能涂层技术及其应用专题研讨会通知高端装备制造中的智能涂层应用
《表面工程与再制造》2023年第5期73-74,共2页 
智能涂层是一种具有响应外界刺激并能够自主调节其性能的材料,它通过在基础材料表面涂覆具有特殊功能的薄膜,实现对光、电、热等外界刺激的敏感和响应。智能涂层在许多领域具有广泛的应用前景,如光电子器件、智能建筑、生物医学等。近年...
关键词:智能涂层 隐身涂层 伪装涂层 防护涂层 技术水平 光电响应 表面涂覆 记忆功能 
氮化碳纳米片光电催化性能及界面反应机制被引量:1
《功能材料》2023年第8期8025-8034,共10页廖先龙 马晓清 
国家自然科学基金项目(52002241)。
石墨相氮化碳(g-C_(3)N_(4))由于低成本、易制备、高化学和热稳定性、合适的带隙等优点受到广泛关注。然而,传统热聚合法制备的g-C_(3)N_(4)片层结构不明显,具有比表面积小、易团聚和光催化活性低等缺点。以热氧化法制备得到氮化碳纳米...
关键词:氮化碳 纳米片 热氧化法 能带弯曲 光电响应 
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