双层辉光等离子体氮化制备梯度Ti-N陶瓷层的技术和机理  

Technology and Mechanism of Fabrication of Ti-N Graded Layer by Double-Glow Plasma Nitriding

作　　者：郑传林[1] 齐荣[1] 徐重[1] 

机构地区：[1]北京交通大学机械系,北京,100084 北京钢铁研究总院,北京,100081 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

出　　处：《稀有金属材料与工程》2005年第z2期1218-1220,共3页Rare Metal Materials and Engineering

基　　金：国家"863"高科技资助项目(7150080050),北交大人才基金资助项目

摘　　要：采用双层辉光等离子氮化技术对纯钛进行处理,原位合成了Ti-N梯度陶瓷层,以满足耐磨性和生物相容性的要求.结果显示,Ti-N陶瓷层主要有ε-Ti2N,δ-TiN和α-Ti(N)相组成,成分和显微硬度随试样处理层深度成梯度变化.对双辉等离子氮化原位形成Ti-N层的过程和机理进行了探讨.分析显示,与传统热氮化相比,空心阴极等离子氮化由于电子振荡作用,电流密度大,导致气体离化率高、氮势增加,扩散驱动力增强,从而使梯度层加厚、渗氮效率提高.

关 键 词：双层辉光 空心阴极 等离子体氮化 Ti-N陶瓷层 机理 

分 类 号：TG156.8[金属学及工艺—热处理]