检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:金国芬[1] 吴惠桢[1,2] 梁军[2] 劳燕锋[2] 余萍[1] 徐天宁[1]
机构地区:[1]浙江大学物理系,固体电子材料物理与器件实验室,杭州310027 [2]中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海200050
出 处:《Journal of Semiconductors》2007年第z1期167-170,共4页半导体学报(英文版)
基 金:国家自然科学基金(批准号;60676003)和浙江省自然科学基金(批准号:2406092)资助项目
摘 要:在半导体硅衬底上沉积C-ZnMgO纳米薄膜,并做成金属-绝缘体-半导体(MIS)结构.通过测试MIS结构的C-V曲线,计算得到C-ZnMgO材料的介电常数为10.5±0.5,并获得了介电常数的频率响应:在1~8MHz的频率范围内,介电常数由10.5降到6.4.通过测试MIS结构的I-V特性曲线,对漏电流产生原因进行了讨论与分析.
关 键 词:C-ZnMgO薄膜 MIS结构 介电常数 漏电性能
分 类 号:TN304.2+1[电子电信—物理电子学]
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