检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:曹猛[1] 张学华[1] 杨瑾[1] 刘桐[1] 邓湘云[1] 李德军[1]
机构地区:[1]天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074 天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074 天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074 天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074 天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074 天津师范大学物理与电子信息学院,天津,300074
出 处:《真空科学与技术学报》2007年第z1期34-37,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基 金:国家自然科学基金(50472026),天津市应用基础研究重点项目(043801011)
摘 要:利用高真空离子束辅助沉积系统在室温下制备了ZrN,TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用X射线衍射仪、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪表征了薄膜的微结构和机械性能,分析了调制周期对薄膜结构与机械性能的影响.结果表明:大部分多层膜的纳米硬度与弹性模量值都高于两种个体材料硬度的平均值,当调制周期为6.5 nm时,多层膜硬度达到最高(30.1 GPa),弹性模量、粗糙度、摩擦以及划痕测试均达到最佳效果.
关 键 词:离子束辅助沉积 ZrN/TiAlN纳米多层膜 硬度 调制周期
分 类 号:TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理] TG174.4[金属学及工艺—金属学]
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