类芬顿反应在碳化硅光学材料研抛中的作用  

Effect of Fenton-Kind process in Silicon Carbon polishing

作　　者：马磊[1] 彭小强[1] 戴一帆[1] 

机构地区：[1]国防科学技术大学,长沙410073

出　　处：《航空精密制造技术》2012年第4期9-11,62,共4页Aviation Precision Manufacturing Technology

摘　　要：本文讨论了以零价铁代替亚铁盐形成类芬顿反应(Fenton-Kind process)体系应用于碳化硅光学材料抛光过程中的反应机理,通过双转子研抛机床对SiC光学材料进行了研抛实验,验证了类芬顿反应能够有效地提高SiC材料的加工效率和加工质量。通过对比不同磨料粒度研抛液加工结果,获得了SiC材料研抛过程中化学与机械作用规律。本文讨论了以零价铁代替亚铁盐形成类芬顿反应(Fenton-Kind process)体系应用于碳化硅光学材料抛光过程中的反应机理,通过双转子研抛机床对SiC光学材料进行了研抛实验,验证了类芬顿反应能够有效地提高SiC材料的加工效率和加工质量。通过对比不同磨料粒度研抛液加工结果,获得了SiC材料研抛过程中化学与机械作用规律。

关 键 词：碳化硅 芬顿反应 研抛加工 

分 类 号：V26[航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]