铍表面溅射沉积钒镀层研究  

Study on Vanadium Coating on Beryllium Substrate Prepared by Magnetron-Sputtering Method

作　　者：秦建伟[1] 帅茂兵[1] 陈林[1] 杨维才 

机构地区：[1]表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621907

出　　处：《稀有金属材料与工程》2012年第S2期754-756,共3页Rare Metal Materials and Engineering

基　　金：表面物理与化学国家重点实验室开放基金

摘　　要：采用磁控溅射法在热等静压成形铍基底表面进行了钒镀层的沉积,并通过SEM、AFM、XRD对钒镀层的微观组织结构进行了分析;为了研究铍/钒镀层界面在高温环境下的互扩散性能,对沉积后的涂层进行了热等静压(HIP)处理。结果表明:采用磁控溅射法可以在铍表面获得结合良好、结构致密的纯钒镀层,镀层晶粒尺寸约为175nm,在垂直于基底表面内为柱状生长。热等静压处理后铍基底和钒镀层间发生了扩散,扩散层厚度约为1μm,并且形成了金属间化合物Be12V。采用磁控溅射法在热等静压成形铍基底表面进行了钒镀层的沉积,并通过SEM、AFM、XRD对钒镀层的微观组织结构进行了分析;为了研究铍/钒镀层界面在高温环境下的互扩散性能,对沉积后的涂层进行了热等静压(HIP)处理。结果表明:采用磁控溅射法可以在铍表面获得结合良好、结构致密的纯钒镀层,镀层晶粒尺寸约为175nm,在垂直于基底表面内为柱状生长。热等静压处理后铍基底和钒镀层间发生了扩散,扩散层厚度约为1μm,并且形成了金属间化合物Be12V。

关 键 词：铍 钒镀层 磁控溅射 热等静压 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]