微细加工技术与设备  

出　　处：《中国光学》2002年第1期99-102,共4页Chinese Optics

摘　　要：TN305 2002010716场致发射阵列制作工艺的研究=Study of fabricationprocessing of field emitter arrays[刊,中]/周洪军,尉伟,洪义麟,徐向东,陶晓明,霍同林,付绍军,裴元吉(中国科技大学国家同步辐射实验室.安徽,合肥(230026)),Chu Jiaru(Surface and Interface Division Department

关 键 词：微细加工技术 微细加工光学技术 国家重点实验室 国家同步辐射实验室 制作工艺 场致发射阵列 中科院 技术研究所 光驻波场 纳米加工 

分 类 号：TN205[电子电信—物理电子学]