从芝加哥Graph Expo'95看印刷技术发展的动向  

作　　者：车茂丰[1] 

机构地区：[1]上海印刷技术研究所

出　　处：《出版与印刷》1996年第1期6-10,共5页Publishing & Printing

摘　　要：一、Graph Expo’95 浏览 美国芝加哥的Graph Expo是世界上第三大规模的国际性印刷博览会,而GraphExpo’95(10月4—8日)的规模又比历届更大,新技术含量也更丰富,同时还举办了51个技术讲座。参展厂商560家,布展面积达38万平方英尺,其中印前部分占1/3。参观人数约5万人次。除印刷业有关人士外,不少美术家、设计师也纷至沓来。

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分 类 号：TS8-2[轻工技术与工程]