一维原子刻蚀的数值模拟(英文)  

Numerical Simulation of One-dimensional Atom Lithography

作　　者：何明[1] 李若虹[1] 王晓锐[1] 王谨[1] 詹明生[1] 

机构地区：[1]中科院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子国家重点实验室,湖北武汉430071

出　　处：《计算物理》2004年第3期327-332,共6页Chinese Journal of Computational Physics

摘　　要：　通过直接的数值模拟,分析了原子束在激光驻波场下传播的动力学行为.估计了Cr原子沉积在基片上的焦点的大小,同时还发现一些实验参数会影响原子刻蚀的精度:如原子束的速度分布、激光的失谐量和激光束的直径等.Building on direct numerical calculation, it analyzes the dynamics of atoms propagating through a laser standing wave (SW) potential in the regime of immersion-lens.The spot size of Cr atomic deposition is estimated. It is also shown that some physical quantities, such as atomic velocity distribution, laser detuning and laser beam radius, play important roles in determining the quality of atom lithography.

关 键 词：原子刻蚀 激光驻波场 量子力学数值模拟 原子物理学 失谐量 

分 类 号：O562.2[理学—原子与分子物理]