离子注入技术的发展及其应用  

Development and Application of Ion Implantation Technology

作　　者：陈江红[1] 陈阳[1] 李爱成[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南长沙410111

出　　处：《电子工业专用设备》2004年第5期64-66,75,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：简述了离子注入技术的发展趋势及典型应用,并简要分析了该领域的技术发展方向。This article discussed development history, trend and typical application of ion implantation technology. And also development direction of this field was analyzed.

关 键 词：离子注入 发展趋势 典型应用 

分 类 号：TN30.5[电子电信—物理电子学]