灰度掩模制作系统掩模图形的生成及工艺研究  

Manufacturing system for gray-scale masks’ mask patterns’ making and technique study

作　　者：杨智[1] 戴一帆[1] 颜树华[1] 

机构地区：[1]国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙410073

出　　处：《激光技术》2004年第4期406-409,共4页Laser Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 0 5 0 2 2 )

摘　　要：灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法。从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发 ,就“掩模图形的生成”和“工艺”这两个难点问题进行了深入的研究 ,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模 。Gray-scale mask method is an active groping facture idea of binary optics at present.For more utility,some difficult questions such as mask patterns’ making and technique are being studied in-depth based on the manufacturing method for gray-scale masks using special light modulator.At the same time,some gray-scale masks of normal binary optical elements have been actually fabricated.

关 键 词：空间光调制器 灰度掩模 工艺 二元光学 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]