灰度掩模

作品数：20被引量：42H指数：4
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基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究被引量：1
《真空科学与技术学报》2016年第12期1441-1445,共5页张恒煦 董连和 王丽 孙艳军 冷雁冰 吴博琦 李哲 刘顺瑞 
针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层...
关键词：无掩模光刻 数字微镜 灰度掩模 微柱透镜阵列 分模曝光 
基于高分辨灰度掩模的图像修复改进设计被引量：1
《微电子学与计算机》2015年第7期157-160,共4页王佳欣 窦小磊 
河南省教育厅科学技术研究重点项目(14A520066)
图像修复是结合计算机图形学和虚拟现实技术的综合学科,在文物保存与防护、医学图像资料与影视特效这些方面具备许多的使用意义.以前的图像修复算法采用断点标定和特征提取方法,当出现不连续破损断点时,图像修复效果不好.提出一种基于...
关键词：高分辨 灰度掩模 图像修复 
HBES玻璃制作菲涅尔透镜灰度掩模的研究
《技术与市场》2013年第12期150-150,共1页王丽 董连和 季振强 陈哲 
从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8%,最小透过率为8.7%。利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91%,证实利用HEBS玻璃...
关键词：HEBS玻璃 灰阶掩模 电子束直写 菲涅尔透镜 
任意形状图形的灰度掩模图的设计系统研究
《纳米技术与精密工程》2013年第2期152-158,共7页杜立群 冼宗明 王大志 
国家自然科学基金资助项目(51075057;50675025;50905027)
灰度掩模技术是制作三维微纳结构的有效方法之一,灰度掩模图设计是灰度掩模技术的重要组成部分.目前,在微机械器件制作领域中,通常只给出常用规则形状三维结构对应的灰度掩模图的设计方法,对于任意形状图形的灰度掩模图设计鲜有报道.本...
关键词：灰度掩模 设计算法 铺路法 任意形状图形 OBJECTARX 
基于数字微镜的无掩模数字光刻系统的研制
《压电与声光》2011年第6期856-858,862,共4页陈劲松 
研究了一种基于数字微镜的无掩模光刻系统。利用数字微镜输出的高精度数字掩模,结合高质量的高倍精缩投影光学系统,理论上完全可实现亚微米级衍射微光学元件的制作。该文从照明系统、数字微镜芯片、精缩物镜设计等方面进行了系统总体设...
关键词：数字微镜 灰度掩模 数字光刻 
多任意形状感兴趣区域块覆盖灰度掩模方法被引量：2
《电光与控制》2009年第4期78-81,共4页赵文俊 任慧斌 
在JPEG2000图像中,采用灰度掩模方法对多个任意形状感兴趣区域进行标识时,由于其要求掩模的行数和列数和原图像相同,使得掩模的数据量非常庞大。为减小掩模的数据量,提出了一种块覆盖灰度掩模方法。该方法在研究灰度掩模的基础上,采用...
关键词：图像处理 JPEG2000 感兴趣区域 灰度掩模 块覆盖 
用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质被引量：2
《真空与低温》2009年第1期1-4,共4页马锋 王多书 罗崇泰 叶自煜 刘宏开 王济州 
表面工程技术国家级重点实验室基金项目(NO.51418060305HT6007)资助。
利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。
关键词：二元金属薄膜 磁控溅射 激光直写 灰度掩模 
灰度掩模等级的精确控制研究被引量：1
《光电子．激光》2007年第1期13-15,共3页颜树华 
国家自然科学基金资助项目(50275145)
在基于空间光调制器(SLM)的灰度掩模并行制作方法中,基于曝光曲线的线性近似关系,建立了灰度掩模强度透过率的线性近似模型,给出了灰度掩模等级精度的精确控制策略。利用卤化银全息感光材料进行了相关实验,制作了菲涅耳透镜的2阶、8阶...
关键词：信息光学 二元光学 灰度掩模 精确控制模型 
基于空间光调制器的灰度掩模制作环形光栅
《光电技术应用》2006年第5期41-42,共2页鲁开源 何兴道 
介绍了基于空间光调制器的灰度掩模系统制作环形光栅.将二元光学方法与环形光栅的概念结合起来,为制作可以集成到光电系统的环形光栅以及其他光学元件提供了一条较好的思路.
关键词：空间光调制器 灰度掩模 环形光栅 二元光学 
基于数字微镜的高质量精缩投影光刻系统的研制被引量：6
《激光与红外》2006年第3期206-209,共4页陈劲松 
文章详细介绍了数字微镜系统总体设计,并进行了实验验证。数字微镜如果结合高质量的高倍精缩投影光学系统,完全可实现亚微米级衍射微光学元件的制作。最后对系统特点和系统误差进行了总结。
关键词：数字微镜 灰度掩模 系统设计 系统特点 系统误差 
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