无掩模光刻

作品数：26被引量：79H指数：6
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基于405nm LED光源DMD无掩模光刻SU-8的特征尺寸研究
《中国科技期刊数据库 工业A》2023年第4期166-169,共4页陈启明 宋显文 傅仁轩 周金运 胡益铭 
SupportedbyGuangzhouScienceandTechnologyPlanningProject(广州市科技计划项目,No.202102021302),FoundationforHigh-LevelTalentsinHigherEducationofGDPIC(广东工贸高层次人才专项基金,No.2021-gc-03,2021-gc-04)。
SU-8光刻胶具有良好的机械性能、耐化学腐蚀性和高的热稳定性,已成为制作高纵横比聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片阳模的首选材料。本文突破了SU-8光致抗蚀剂在365 nm-400 nm波长范围内感光区的限制,通过多次曝光积累曝光强度,达到SU-8...
关键词：SU-8 PDMS DMD 无掩模光刻 特征尺寸 
基于无掩模光刻的生物透镜阵列组装方法
《中国科学：技术科学》2023年第4期536-546,共11页寮欣 于海波 葛治星 张天尧 仲亚 刘斌 刘连庆 
国家自然科学基金(批准号:61727811)资助项目。
在微纳光学领域,透明的介质微球和活体生物细胞都因具备光学成像能力,而受到研究者越来越多的关注.然而,由于其尺寸和生物活性限制,很难将它们直接集成到光学系统上.基于光镊、声镊等多物理场方法虽然可以操作微球和细胞用于成像,但是...
关键词：生物透镜 无掩模光刻 细胞透镜 光学成像 超分辨 
用于全息波导的阶梯光栅设计
《光电子技术》2020年第4期291-294,共4页袁烨 冯奇斌 吕国强 
安徽省科技重大专项(No.17030901053)。
基于标量理论计算了三阶任意宽度的台阶光栅的衍射效率,发现当台阶宽度相等时光栅的衍射效率最高。采用基于严格耦合波的仿真软件分析了不同折射率下阶梯光栅高度和衍射效率之间的关系。仿真结果表明:光栅材料的折射率分别为1.52和1.74...
关键词：全息波导 光栅 衍射效率 无掩模光刻 
基于运动补偿的DMD无掩模光刻拼接误差校正被引量：3
《光电工程》2020年第6期43-48,共6页姜旭 杨絮 刘红 胡俊 王英志 
吉林省科技发展计划项目(20170204053GX)。
在DMD光刻设备中,由于机械装调产生的机械误差导致曝光图像间产生拼接误差,进而造成曝光图像出现错位、交叠等问题。为了消除DMD在大面积曝光过程中的曝光误差,对误差校正方法进行研究。首先,利用显微镜对曝光后的基板进行测量得到曝光...
关键词：DMD光刻 DMD大面积曝光 运动补偿 倾角误差 
飞秒激光快速制备大面积二维微纳结构被引量：12
《激光与光电子学进展》2020年第11期274-281,共8页高文 郑美玲 金峰 董贤子 刘洁 
国家科技部重点研究项目(2017YFB1104300);国家自然科学基金重点项目(61975213,61475164,91323301)。
采用数字微镜器件(DMD)无掩模光刻技术,以飞秒激光为光源,结合大面积拼接的方法快速制备了具有较高分辨率和毫米尺寸的大面积微纳结构。提出以单子场投影线扫描的方式进一步改善由于光场能量分布不均匀引起的结构边缘粗糙的问题,极大地...
关键词：激光光学 微纳结构 正胶 大面积 数字微镜器件无掩模光刻 边缘粗糙度 
基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究被引量：1
《激光与光电子学进展》2020年第3期210-216,共7页殷艺 刘志坚 王赛杰 武森 严志军 潘新祥 
中央高校基本科研业务费专项基金(3132019189)。
氧化铟锡(ITO)导电膜具有电阻率低、透光性好、耐高温等优点,在光电领域具有重要应用。现有加工方法得到的ITO电极尺寸一般为10~200μm,这限制了ITO电极在微纳领域的应用,为解决此限制,在传统湿法刻蚀方法的基础上,利用无掩模光刻技术对...
关键词：光学设计 ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 
用于MiniLED背光模组的亮度增强薄膜设计与制备被引量：4
《应用光学》2019年第5期887-893,共7页汪勇 冯奇斌 郭敏 王梓 吕国强 
安徽省科技重大专项(17030901053)
传统的两层棱镜膜对于MiniLED背光的增亮效果不明显,因此设计了一种微结构薄膜来代替两层棱镜膜。首先,根据MiniLED背光的配光曲线及尺寸,对微结构进行分段设计。将与MiniLED芯片等宽区域设定为顶角90°的棱柱结构,对2个MiniLED芯片之...
关键词：MiniLED背光模组 增亮 扩展光源 微结构 无掩模光刻 
新型光刻技术研究进展被引量：16
《激光技术》2019年第1期30-37,共8页何立文 罗乐 孟钢 邵景珍 方晓东 
集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些...
关键词：激光技术 光学制造 新型光刻技术 无掩模光刻 掩模光刻 微纳结构 
基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究被引量：1
《真空科学与技术学报》2016年第12期1441-1445,共5页张恒煦 董连和 王丽 孙艳军 冷雁冰 吴博琦 李哲 刘顺瑞 
针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层...
关键词：无掩模光刻 数字微镜 灰度掩模 微柱透镜阵列 分模曝光 
2μm分辨DMD光刻系统镜头设计被引量：2
《光电工程》2015年第3期83-88,共6页郭华 周金运 刘志涛 雷亮 
国家自然科学基金(61475037);国家自然科学基金青年基金(61107029)资助项目
针对2μm分辨力的光刻,在以数字空间微反射器(DMD)为空间光调制器(SLM)的光刻系统中,采用一种新的非对称式结构组合,使用较少的透镜组成了一个高分辨力、大孔径的投影光刻镜头。利用ZEMAX光学设计软件对其进行了建模和优化,最终得到其...
关键词：DMD无掩模光刻 栅格效应 投影镜头 光学设计 
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