湿法刻蚀

作品数：221被引量：468H指数：10
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包含偏硅酸影响的3D NAND磷酸湿法刻蚀动力学
《化工学报》2025年第2期645-653,共9页彭子林 周蕾 邓庆航 叶光华 周兴贵 
国家自然科学基金项目(22378115)。
以磷酸为刻蚀剂选择性刻蚀Si_(3)N_(4)和SiO_(2)堆叠结构中的Si_(3)N_(4),是3D NAND闪存芯片制造过程中最关键的步骤之一。随着3D NAND存储单元堆叠层数的不断升高,扩散限制越来越严重,刻蚀产物偏硅酸浓度梯度不断加大,致使刻蚀工艺面...
关键词：3D NAND闪存 湿法刻蚀 氮化硅 氧化硅 偏硅酸 化学反应 动力学 动力学模型 
GaInP/GaAs/Ge太阳电池边缘Si_(3)N_(4)钝化研究
《电源技术》2024年第12期2528-2531,共4页许军 孙希鹏 韩宇 赵拓 铁剑锐 肖志斌 
GaInP/GaAs/Ge太阳电池相比于Si基、CIGS、CdTe等材料具有更高的光电转换效率,结构材料具有少子寿命短、复合速率快的特点。电池在加工过程中边缘侧截面会产生大量缺陷,同时表面悬挂键造成态密度增加,表面光生少数载流子复合对光电转换...
关键词：PECVD 光刻 湿法刻蚀 侧截面 光电转换效率 
缓冲氧化物刻蚀液在沟槽结构湿法刻蚀工艺中的应用
《化工生产与技术》2024年第6期9-12,33,共5页张学良 贺辉龙 石加明 李军 
针对氧化物刻蚀液(BOE)在沟槽结构湿法刻蚀工艺中的应用,考察单片清洗工艺、槽式清洗工艺和烧杯实验3种湿法刻蚀工艺的影响因素,如卡盘转速、化学品流量、预冲洗和表面活性剂使用。结果表明,烧杯实验中,表面活性剂的添加使刻蚀速率明显...
关键词：缓冲氧化物刻蚀液 湿法刻蚀 沟槽结构 
小闪耀角单晶硅光栅结构参数优化及制备工艺
《中国光学（中英文）》2024年第5期1139-1149,共11页徐昊宇 姜岩秀 陈星硕 王瑞鹏 张靖 巴音贺希格 
国家自然科学基金项目(No.U21A20509);中国科学院关键核心技术攻关项目(No.20200602051ZP);吉林省自然科学基金项目(No.20210101139JC);中国科学院科学仪器设备开发项目(No.YJKYYQ20200003);中国科学院青年创新促进会项目(No.2022218)。
本文开展了对单晶硅小闪耀角光栅的各向异性湿法刻蚀制备工艺研究,制备了适用于软X射线中波波段的闪耀光栅,以满足国家同步辐射光源的需要。首先,基于严格耦合波法对小闪耀角光栅进行了结构参数优化及工艺容差分析。在晶向对准过程中,...
关键词：闪耀光栅 单晶硅 晶向对准 湿法刻蚀 
InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺研究综述
《航空兵器》2024年第5期41-49,共9页张翔宇 蒋洞微 贺雯 王金忠 
国家自然科学基金青年基金项目(62004189);国家重点研发计划(2019YFA0705203);航空科学基金项目(20182436004);西北稀有金属材料研究院稀有金属特种材料国家重点实验室开放课题基金项目(SKL2023K00X)。
本文综述了InAs/GaSb超晶格台面刻蚀工艺研究。从湿法和干法刻蚀的物理化学机理以及参数调控等方面进行分析,旨在阐明工艺条件对台面形貌的影响,以抑制带隙较窄的长波和甚长波超晶格表面漏电流。结果表明,湿法刻蚀中恰当的腐蚀液配比可...
关键词：INAS/GASB超晶格 湿法刻蚀 干法刻蚀 刻蚀机理 工艺优化 
基于仿生蛾眼结构制备减反射微晶玻璃
《表面技术》2024年第18期183-191,共9页胡伟 尹勇明 郝霞 孟鸿 
国家自然科学基金(51873002);广东省基础与应用基础研究基金(2020B1515120029)。
目的采用湿法刻蚀制备减反射微晶玻璃,分析晶化时间对透过率、反射率和形貌的影响。方法通过熔融法制备得到基础玻璃,调整晶化时间制备得到一系列不同晶粒尺寸(12.2~27.4nm)的微晶玻璃,将制备得到的基础玻璃及不同晶粒尺寸的微晶玻璃放...
关键词：微晶玻璃 湿法刻蚀 蛾眼结构 晶粒大小 透过率 晶化工艺 
湿法刻蚀钝化对GaAs表面性能影响的工艺研究被引量：1
《中国激光》2024年第16期124-132,共9页张亚磊 兰云萍 韩佳媛 张洪榕 邹永刚 
吉林省教育厅科学技术研究项目(JJKH20220739KJ);吉林省科技发展计划项目(YDZJ202301ZYTS261)。
砷化镓(GaAs)是一种典型的Ⅲ-V族半导体材料,但材料本身缺少高质量的稳定钝化层,表面存在较高的表面态密度,最终影响GaAs基半导体器件的性能。采用多步湿法刻蚀钝化工艺降低了GaAs衬底的表面态密度,详细分析了不同酸溶液、酸溶液刻蚀时...
关键词：薄膜 表面化学 多步湿法刻蚀钝化 酸溶液 光致发光强度 砷化镓表面均匀性 
湿法刻蚀对硅微表面损伤层及金属离子残留控制研究
《清洗世界》2024年第7期40-43,共4页刘志彪 祝建敏 王少凡 李熊 李长苏 
半导体硅部件是集成电路制程工艺中关键零部件,其制造过程主要通过机械铣削的方式实现产品特征加工,这种加工方式难以避免在硅表面形成亚表面损伤层,这不仅影响硅部件表面质量,同时产品表面金属离子残留难以进行控制。本文阐述了硅湿法...
关键词：硅 微表面 湿法刻蚀 微表面损伤层 金属离子 
高灵敏度石英振梁加速度计的设计与研制
《导航与控制》2024年第3期56-61,共6页林盛受 徐承诚 梁金星 
石英振梁加速度计因其高精度和高稳定性成为加速度计研究的热点之一。为解决石英振梁加速度计存在标度因数难以提高的问题,提出并研制了一种一体式石英振梁加速度计。介绍了该加速度计的结构模型并展开了理论分析,指出了提高标度因数的...
关键词：石英 微机电系统 谐振 振梁加速度计 标度因数 湿法刻蚀 高精度 
界面钻蚀主导的准各向异性湿法刻蚀法制备玻璃微棱镜阵列
《光学精密工程》2024年第9期1384-1394,共11页李菲尔 余佳珈 杜立群 吴梦希 刘军山 
国家重点研发计划资助项目(No.2022YFB3204600);大连理工大学医工交叉联合基金资助项目(No.DUT23YG215)。
玻璃微棱镜具有耐腐蚀、耐高温、寿命长等优点,但在玻璃上加工微棱镜阵列目前仍是一个难题。因此,提出了界面钻蚀主导的玻璃准各向异性湿法刻蚀方法,制备了高质量的微棱镜阵列器件。在元胞自动机中引入界面性质调控,模拟了界面钻蚀与各...
关键词：微棱镜 湿法刻蚀 硼硅玻璃 界面钻蚀 准各向异性刻蚀 
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