用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质  

PREPARATION AND OPTICAL PROPERTY OF BIMETALLIC THIN FILMS FOR LASER DIRECT-WRITE GRAY-LEVEL MASK

作　　者：马锋[1] 王多书[1] 罗崇泰[1] 叶自煜[1] 刘宏开[1] 王济州[1] 

机构地区：[1]兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃兰州730000

出　　处：《真空与低温》2009年第1期1-4,共4页Vacuum and Cryogenics

基　　金：表面工程技术国家级重点实验室基金项目(NO.51418060305HT6007)资助。

摘　　要：利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。Zn/Al bimetallic thin films were prepared on glass substrate by RF magnetr-ron sputtering, and deposition parameters of Zn/Al bimetallic thin films was obtained. Applications for laser direct-write gray-level mask were also discussed.

关 键 词：二元金属薄膜 磁控溅射 激光直写 灰度掩模 

分 类 号：TN214[电子电信—物理电子学]