反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究  

Study on reactive sputtered Ti-Si-N nanocomposite films

作　　者：戴嘉维[1] 胡祖光 祝新发 陈练[1] 李戈扬[1] 

机构地区：[1]上海交通大学材料科学与工程学院,上海200030 [2]上海工具厂有限公司,上海200093

出　　处：《电子显微学报》2004年第4期372-372,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：上海市专利技术二次开发项目 (No .0 3 72 5 0 5 2 )

关 键 词：钛-硅-氮复合薄膜 纳米晶体 反应溅射法 透射电子显微镜 结构分析 

分 类 号：TN304.05[电子电信—物理电子学]