大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算  

ANALYSIS AND CALCULATION OF FORCES ON MACRO- PARTICLES IN PLASMA SHEATH

作　　者：郭慧梅[1] 林国强[1] 盛明裕[2] 王德真[2] 董闯[1] 闻立时[1] 

机构地区：[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连116024 [2]大连理工大学物理系,大连116024

出　　处：《金属学报》2004年第10期1064-1068,共5页Acta Metallurgica Sinica

基　　金：国家高技术研究发展计划资助项目2002AA302507

摘　　要：用Edelberg和Aydil的等离子体鞘层模型,对电弧离子镀中大颗粒在脉冲偏压鞘层中的带电及受力情况进行了分析 和计算,为大颗粒由于带负电而受到电场力排斥从而被净化的实验现象和物理模型提供佐证.Applying the plasma sheath models given by Edlberg and Aydil, the charging effect and forces acting on macroparticles are analyzed and calculated in pulsed-bias arc ion plating, which gives an evidence to the experimental phenomenon and physical model in which macroparticles would be repulsed from electric force and hence are significantly reduced.

关 键 词：大颗粒 电弧离子镀 脉冲偏压 等离子体鞘层 受力分析 

分 类 号：TB43[一般工业技术]