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机构地区:[1]江西理工大学材料与化工学院,江西赣州341000
出 处:《表面技术》2004年第4期67-68,共2页Surface Technology
摘 要: 用DL01、DL03作光亮剂,在氟硼酸盐镀液中,改变电流密度和搅拌速度在0.5mm的铜线上,电镀出锡 铅和锡 铅 钴合金镀层。结果表明,在Jc=5~18A dm2,v=47、96、150m min时,Sn与Pb的共沉积属异常共沉积。当Jc>30A/dm2时属正常共析。当镀液中含有Co时促进了Sn的共沉积。Using DL01,03 as brightener, bright Sn-Pb & Sn-Pb-Co alloy coatings on Ф0.5mm copper wire were electroplated in fluoroborate plating baths under different current density Jc(A·dm^(-2)) and agitation speed V(m·min^(-1)) in fluoroborate plating baths. The results indicated that the Sn-Pb co-deposit under Jc(A·dm^(-2))=5~18, V(m·min^(-1))=47, 96 & 150 is abnormal co-deposit. Under Jc(A·dm^(-2))>30, Sn-Pb co-deposit is normal co-deposit. When the bath contained 3.86g·L^(-1) Co(BF_4)_2, Co^(2+)accelerated Sn^(2+) deposit.
分 类 号:TQ153.2[化学工程—电化学工业]
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