英特EUV光刻技术研发获重要突破  

出　　处：《半导体技术》2004年第9期80-80,共1页Semiconductor Technology

关 键 词：英特尔公司 远紫外线光刻 微型照射工具 掩模制造 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]