绝缘膜薄膜化达到极限希望寄托于高k材料  

作　　者：成英 

出　　处：《电子设计应用》2004年第9期63-74,共12页Electronic Design & Application World

关 键 词：LSI设计 漏电流 阈值 薄膜 人员 绝缘膜 

分 类 号：TP333[自动化与计算机技术—计算机系统结构] TN302[自动化与计算机技术—计算机科学与技术]