一种新型脉冲微束斑X射线源的研究  

Study of Protable Pulse X-ray Sources with Micro-beam

作　　者：王凯歌[1] 牛憨笨[2] 郭保平[3] 阔晓梅[3] 王鹏业[1] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所软物质实验室,北京100080 [2]中国科学院西安光学精密机械研究所光电子部,陕西西安710068 [3]深圳大学光电子学研究所,广东深圳518060

出　　处：《光电子．激光》2004年第9期1011-1015,共5页Journal of Optoelectronics·Laser

基　　金：国家自然科学基金资助项目(69878033)

摘　　要：通过控制栅极电压技术,有效地控制LaB6阴极电子枪发射系统电子束发射的通与断,成功实现了新型台式微束斑X射线源的脉冲辐射。该X射线源主要由三部分组成:LaB6单晶阴极电子枪发射系统,静电聚焦系统以及金属靶材系统。通过对该微束斑X射线源输出的X射线束斑、亮度等特性的初步实验测试,表明这种脉冲式微束斑X射线源具有束斑小、亮度高的特点,其中X射线束焦斑仅为10μm左右。A noval protable pulse X-ray source with micro-beam was introduced in this paper. The pulse X-ray source is composed of three portions: LaB6 crystal cathode electron gun emitting system, electrostatic focusing system, and metal target system. The LaB6 crystal cathode electron gun emitting electron beam are controlled by modulating Wehnelt grid voltage, and the X-ray is irradiated by high energy electron beam bombarding the metal target. In addition, the capabilities of the new X-ray source with micro-beam, such as the electro-beam focus and luminance, are preliminary tested, the minimal focal point dimension is just about 10 micrometre.

关 键 词：发射系统 电子枪 X射线源 焦斑 亮度 聚焦系统 栅极电压 微束 分组 脉冲 

分 类 号：TN248.6[电子电信—物理电子学] TP391.41[自动化与计算机技术—计算机应用技术]