等离子轰击渗金属  

Plasma Bombardment Surface Alloying

作　　者：毛磊[1] 郝元立[1] 马彦芬[1] 李如栋[1] 

机构地区：[1]河北机电学院材料科学与工程系

出　　处：《河北机电学院学报》1995年第1期66-71,共6页

摘　　要：本文介绍了两种离子轰击渗金属工艺——双层辉光离子渗金属和离子轰击膏剂渗金属的基本原理、研究现状和今后的发展前景。This paper introduces two types of plasma surface alloying methods-double glow plasma surface alloying and plasma bombardment pasty surface alloying.Their basic principles,research work at present and development in future are discribed.

关 键 词：离子渗金属 双层辉光 金属工艺 离子轰击 等离子 膏剂 基本原理 

分 类 号：TM215[一般工业技术—材料科学与工程] TG156.8[电气工程—电工理论与新技术]