Monte Carlo模拟有特殊几何边界试样的扫描电镜成像衬度  

Monte Carlo simulation of SEM imaging contrast for samples with special geometrical boundary

作　　者：李会民[1] 丁泽军[1] 

机构地区：[1]中国科技大学结构分析重点实验室,物理系,安徽合肥230026

出　　处：《电子显微学报》2003年第6期514-515,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (No .10 0 2 5 42 0 ;2 0 0 75 0 2 6 ;90 2 0 6 0 0 9)

关 键 词：MonteCarlo模拟方法 扫描电镜成像 特殊几何边界 表面形貌 低能二次电子 背散射电子 计算模拟方法 弹性散射 非弹性散射 

分 类 号：TN16[电子电信—物理电子学] O242.2[理学—计算数学]