浅谈酸铜镀液中的Cu^+产生的原因  被引量:2

Causes for the Formation of Cu+ Ion in Acid Copper Plating Bath

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作  者:吴双成 

机构地区:[1]甘肃皋兰胜利机械厂,甘肃皋兰730200

出  处:《电镀与环保》2004年第4期43-44,共2页Electroplating & Pollution Control

关 键 词:硫酸盐 镀铜工艺 电镀工艺 电流密度 废水处理工艺 

分 类 号:X781.1[环境科学与工程—环境工程]

 

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