检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:龚建勋[1] 刘正义[1] 邱万奇[1] 闻立时[2] 林盛川
机构地区:[1]华南理工大学机械工程学院,广州510640 [2]中国科学院金属研究所,沈阳110015 [3]汕头超声集团,汕头515041
出 处:《真空科学与技术学报》2004年第5期359-362,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基 金:广东省科技攻关计划资助项目 (No.10 2 B2 665 0 ) ;广东省自然科学基金重点资助项目 (No.116 B65 13 0 )
摘 要:采用真空蒸发沉积 (蒸镀 )聚乙烯醇薄膜 ,通过SEM和光学显微镜观察聚乙烯醇薄膜呈现典型的岛状形式并均匀分布于衬底表面 ,且以梯田状台阶式长大。衬底温度是影响PVA薄膜沉积速度的主要因素。红外光谱分析表明其蒸镀薄膜的主要化学结构特点是羰基代替了部分羟基。Poly (vinyl alcohol) (PVA) thin films,grown on glass substrates by vacuum deposition,were studied with optical and scanning electron microscopes (SEM) and infrared spectroscopy.Fairly uniform-distributed islands with stepped edges dominate the film surface.The results show that substrate temperature strongly affects the film growth rate and that partial replacement of hydroxyl groups by carbonyl counterpart is the main growth mode of the evaporated film.
关 键 词:聚乙烯醇薄膜 真空蒸镀 衬底温度 真空蒸发沉积 均匀分布 薄膜沉积 红外光谱分析 表面 SEM 化学结构
分 类 号:TB333[一般工业技术—材料科学与工程] O484.41[理学—固体物理]
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