我国集成智能传感器的发展还有待加强  

出　　处：《集成电路应用》2004年第10期78-78,共1页Application of IC

摘　　要：目前集成电路技术发展非常迅速，我国国有资金和技术等方面的不足，同国外的差距还很大，国外集成电路的主流工艺正由0．35μm向0．18μm推进，而我国还是在1μm～3μm的工艺线上占主导地位，在未来的10～20年内，我国很难在集成电路制造领域同国外大公司抗衡。

关 键 词：中国 发展 大公司 国有资金 集成电路制造 国外 推进 主导地位 主流 抗衡 

分 类 号：TN4[电子电信—微电子学与固体电子学] F426.63[经济管理—产业经济]