前进中的曝光技术  

Lithography on the Move

作　　者：陈江红[1] 陈阳[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙410111

出　　处：《电子工业专用设备》2004年第12期66-68,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：简述了曝光的历史和发展趋势及当前的技术状态和技术难点,指出了将来的发展思路。This article briefly describes history, trend, current technology conditions and difficulties. And development thought in the future is also pointed.

关 键 词：曝光技术 电子束 超大规模集成电路 

分 类 号：TN205[电子电信—物理电子学]