掩模硅片自动对准误差校正算法  

Correction Algorithm for Reticle-Si-Wafer Automatic Alignment Errors

作　　者：梁友生[1,2] 曹益平[1] 周金梅[3] 邢廷文[3] 

机构地区：[1]四川大学光电科学技术系 [2]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209 [3]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

出　　处：《微纳电子技术》2005年第1期42-47,共6页Micronanoelectronic Technology

基　　金：微细加工光学技术国家重点实验室基金 (KFS4)资助

摘　　要：为了改善对准精度,对100nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中。掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片坐标系相互的位置关系,可很好地校正由掩模硅片引起的平移、线变、旋转、正交性的偏差。To improve the alignment accuracy,an automatic alignment algorithm for 100 nm CD reticle-wafer was constructed. The algorithm was applied in Si wafer,reticle and workpiece flat alignment model in co-axis & off-axis alignment system. The relative positions of MCS,RCS,WCS are determined by the automatic alignment algorithm. In this mixed alignment system,the deviations of offset,scaling,rotation and orthogonality which are caused by the reticle-wafer are well corrected.

关 键 词：光学光刻 掩模硅片 对准 对准模型 最小二乘法 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]