真空沉积法制备InSb纳米颗粒  

InSb Nano-pellet Films Prepared with Vacuum Evaporation Deposition

作　　者：孙全[1] 何焰兰[1] 吕志辉[1] 黄水花[1] 

机构地区：[1]国防科学技术大学理学院,湖南长沙410073

出　　处：《应用光学》2005年第1期46-48,共3页Journal of Applied Optics

摘　　要：采用真空沉积的方法在 Si O2 基片上制备出了纳米 In Sb颗粒薄膜。利用原子力显微镜对 4片样品表面进行分析 ,从其表面形貌图和三维图中可以观察到有粒径均匀的纳米 In Sb颗粒形成并且均匀地分布在 Si O2 基片表面。实验表明 ,通过改变镀膜时间可以得到具有不同颗粒尺寸的 In Sb纳米颗粒 。We get nanometer-sized InSb particle films deposited on the SiO_2 subs trate by using vacuum evaporation. The atomic force microscopy was applied to the morphology survey of the film surfaces. The results show that the films are composite of nano-particles of InSb.With the analysis of the scanning images of these samples, the result of the experiment proves that different sizes of InSb particles can be formed by changing the plating time.

关 键 词：纳米InSb颗粒 真空蒸发沉积 原子力显微镜 

分 类 号：TN305.93[电子电信—物理电子学]