LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜界面结构分析  

Analysis of Microstructures of LaAlO_3/BaTiO_3 Superlattice

作　　者：郝兰众[1] 李燕[1] 邓宏[1] 刘云杰[1] 姬洪[1] 

机构地区：[1]电子科技大学微电子与固体电子学院,成都610054

出　　处：《材料导报》2005年第2期103-105,共3页Materials Reports

基　　金：国家973基础研究基金(基金编号:51310z)

摘　　要：通过研究发现,利用激光分子束外延技术生长的 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜具有良好的电学性能,其剩余极化可达到25μc/cm^2。性能决定于结构,因此本文分析研究了 LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜的界面结构。首先通过高能电子衍射技术在薄膜生长过程中对各层的生长及界面状况进行观测,再通过小角 X 射线衍射曲线及其计算机拟合曲线进一步确定超晶格薄膜的界面及结构参数,如界面的粗糙度、单层厚度等。通过研究发现,由于晶格之间的差异,LaAlO_3/BaTiO_3超晶格薄膜中 LaAlO_3和 BaTiO_3层的生长过程及微结构存在着一定的差异。LaAlO_3/BaTiO_3 superlattices prepared by laser molecular beam epitaxy(L-MBE)exhibits excel- lent electric properties with the remnant polarization of 25μc/cm^2.The interface structures of LaAlO_3/BaTiO_3 super- lattice is investigated by using small-angle X-ray diffraction(SAXRD)and reflection high-energy electron diffraction (RHEED)technologies.The different roughness obtained by the SAXRD and the change of diffraction streaks ob- served in RHEED illustrate the different growth mode for BaTiO_3 and LaAlO_3 layers in the superlattice.It was at- tributed to the lattice mismatch in the superlattice.

关 键 词：超晶格 薄膜生长 剩余极化 小角X射线衍射 界面结构 计算机拟合 BATIO3 研究 性能 微结构 

分 类 号：TB332[一般工业技术—材料科学与工程] O484[理学—固体物理]