1.5—2μmMOS干法刻蚀技术  

作　　者：李祥 吕军 

出　　处：《微电子技术》1993年第2期13-21,47,共10页Microelectronic Technology

关 键 词：集成电路 干法刻蚀 MOS 刻馈 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]