TiN涂层表面氧化层研究  

Oxidation Film on Surface of TiN Coating

作　　者：王永康[1] 王伟民[1] 顾晓红[1] 李炳生[1] 夏立芳[1] 雷廷权[1] 

机构地区：[1]宁波市中国兵器工业第五二研究所,哈尔滨工业大学

出　　处：《材料保护》1994年第2期13-16,共4页Materials Protection

基　　金：中科院北京联合分析测试中心分析测试基金

摘　　要：在高速钢表面沉积ＴｉＮ涂层，运用ＳＥＭ、ＸＲＤ和ＸＰＳ等方法研究了ＴｉＮ涂层表面氧化物形成机理。结果表明，ＴｉＮ涂层表面氧化物为ＴｉＯ２，膜厚度约６０ｎｍ，系由涂层表面吸附氧而形成。

关 键 词：物理气相沉积 涂层 氮化钛 氧化 

分 类 号：TG174.451[金属学及工艺—金属表面处理]