PCVD生长的SnO2／Fe2O3膜的分界面过滤层的性质和形成  

作　　者：方水泉 

出　　处：《等离子体应用技术快报》1994年第10期13-14,共2页

关 键 词：等离子体 化学气相沉积 锡氧化物 铁氧化物 薄膜 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学]