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作 者:吴培钧 杨涛[1] 陈烈[1] 刘东[1] 刘贵荣[1] 阎小林[1]
机构地区:[1]中国科学院物理所国家超导实验室,西北大学物理系,南开大学电子系
出 处:《低温物理学报》1994年第5期350-353,共4页Low Temperature Physical Letters
摘 要:我们在77K下测量了TI膜微桥结的低频1/f电压噪声和I-V特性曲线并得到了10HZ下偏置电流和电压噪声关系.实验结果表明在临界电流附近总有噪声峰出现.在不同的磁场下冷却样品,噪声峰的幅度并不改变.这一结果意味着TI膜微桥隧道结的1/f噪声主要来自于临界电流的涨落,而不象是由于磁通捕获造成的.AbstractWe have measured the low frequence 1/j voltage noise of the Tl film microbridge junctions and I-V characteristics curve at 77K,and obtained the relation of the bias current vs. voltage noise at 10Hz. The experimental results showed that a noise Peek always present near the critical current Ic.By cooling the samples in different magnetic field, we found that the noise Peek does not change in amplidude. This implies that the 1/jnoise of the Tl film microbridge mainly results from the fluctuationin Ic,and is not likely due to the trapped flux.
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