真空微电子荧光平板显示器件的实验研究  

The Array Fabrication and Measurement of Vacuum Microelectronic Flat Display

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作  者:刘杰明[1] 李志能[1] 陈秀峰[1] 

机构地区:[1]浙江大学信息与电子工程学系

出  处:《电子器件》1994年第3期105-109,共5页Chinese Journal of Electron Devices

摘  要:真空微电子荧光平板显示器件的实验研究刘杰明,李志能,陈秀峰(浙江大学信息与电子工程学系)关键词:真空微电子,反应离子刻蚀一、引言近十年来,随着真空微电子学的崛起,利用微细加工技术,使真空元器件集成化和高性能化已成为可能,一种新型场致发射阵列真空荧光平...The operationalprinciple of vacuum microelectronic flat display os discribed in thispaper.The ion etching technipue for fabricating the field-emitter large scale array is presented.Thefield-emitter characterisitics of the flat display have been obtasined in danymical vacuum systems.

关 键 词:反应离子刻蚀 真空微电子学 荧光平板显示 

分 类 号:TN873.983[电子电信—信息与通信工程] TN405

 

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