氩注入砷化镓中的高分辨电镜观察  

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作  者:朱健[1] 徐景阳[1] 

机构地区:[1]中国科学院上海冶金研究所

出  处:《电子显微学报》1994年第6期477-477,共1页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基  金:浙江大学高纯硅国家重点实验室基金和国家自然科学基金

摘  要:氩注入砷化镓中的高分辨电镜观察朱健,徐景阳(中国科学院上海冶金研究所,上海200050)本工作用截面法制备电镜试样,在高分辨电子显微镜中观察到170KeV能量的氩注入砷化镓中的精细结构。由于注入的惰性气体不固溶于砷化镓,它以高压泡形式存在,泡中还有气...

关 键 词:砷化镓 半导体材料  注入 电子显微镜 

分 类 号:TN304.23[电子电信—物理电子学]

 

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