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作 者:周必忠[1] 陈世帛[1] 雷红兵[1] 简方方 陈辰嘉[1] 王学忠[1] 刘继周[1]
机构地区:[1]厦门大学物理系,北京大学物理系
出 处:《光谱学与光谱分析》1994年第6期5-9,共5页Spectroscopy and Spectral Analysis
基 金:国家自然科学基金;北京大学稀土材料化学及应用国家重点实验室资助
摘 要:用离子注人法对InP晶体实现高浓度稀土(RE)Er的掺杂,探索了优质材料的制作规律和条件。在低温(10~200K)测量了光致发光谱(PL),观测到Er的尖锐发光峰,其峰值波长1.538μm,其发光强度较大;研究了该材料的热退火行为,Er发光中心的形成和光激活过程;用Rutherford背散射谱(RBS)测量给出了热退火前后注Er-InP晶体中Er离子浓度的数值及深度分布;并对Er发光中心的组成和光激发机制作了分析讨论。The rare earth doped Ⅲ - Ⅴ compound luminescence material InP: Er was prepared by ion implantation method. The photoluminescence spectra(PL) of the samples were measured at low temperature (10-200K ). The sharp luminescence peak (wavelength 1. 538μm) of Er centers has been observed. The Er concentration profiles were measured by Rutherford back-scattering spectrometry (RBS) in Er-implanted Inp crystals. The formation and optical excitation mechanism of Er luminescence centers in the samples were analysed.
分 类 号:TN104.3[电子电信—物理电子学] O614.344[理学—无机化学]
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