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作 者:王震遐[1] 潘冀生[1] 章骥平[1] 陶振兰[1] 朱福英[1] 赵烈[1] 张慧明[1]
机构地区:[1]中国科学院腐蚀科学开放研究实验室,中国科学院上海原子核研究所,杭州大学
出 处:《核技术》1994年第8期455-462,共8页Nuclear Techniques
基 金:国家自然科学基金
摘 要:侧重研究了入射Ar+离子不同剂量轰击时表面微形貌和溅射原子角分布之间的关联,并建议用“元素按靶点表面微形貌特征局域富集模型”来解释溅射原子角分布形状以及择优溅射曲线的变化;发现其结果与实验相符合。Angular distributions of sputtered atoms and the phenamenon of element locally rich relative to microtopographic feature(ELR-MTF) of sputtered target surface have been investigated for Cu-37 at%Ag alloys by means of RBS,SEM and EPMA measurements.In this paper,emphasis will be put on the correlation between surface topography caused by Ar+ ion bombardment with different doses and angular distribution of sputtered atoms ejecting from various micro-zones at topographical surface during sputtering.The experiment result was explained with the so-called ELR-MTF model which can qualitatively interpret the shape of the angular distributions and the variation of the preferential sputtering curves.
分 类 号:TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]
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