等离子体源离子束混合注入对金属表面改性的研究  

作　　者：陈英方[1] 吴知非[1] 施芸城[1] 蒋向荣 

机构地区：[1]中国纺织大学应用物理教研室,上海200051

出　　处：《科学通报》1994年第3期281-283,共3页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助项目

摘　　要：现行的离子注入除可有效地用于半导体和集成电路生产外还可用于金属表面改性.但它是一种“直视”加工,如靶是非平面状的,为了能注入其各面,必须操纵靶能平动或转动.即使配有复杂的靶控制系统,由于靶的最大保留剂量受到离子束入射角的影响,因此这种束线注入器的性能仍受到限制.为使具有曲面状的靶获得合适的剂量均匀性,常在靶上加一掩蔽以限制离子束的入射角.纵然靶具有适于掩蔽的对称性,结果也总要降低系统性能,而掩蔽的溅射又会反过来沾污靶面.

关 键 词：等离子体 离子注入 表面改性 金属 

分 类 号：TG156.99[金属学及工艺—热处理]