TEOS-O_3系常压CVD技术  

作　　者：松浦正纯 林出吉生 陈学珍 

出　　处：《微电子技术》1994年第4期16-22,共7页Microelectronic Technology

关 键 词：多层布线 化学汽相沉积 四乙氧基硅烷 臭氧 

分 类 号：TN470.597[电子电信—微电子学与固体电子学]