TL全光亮化学镀镍磷合金工艺研究  

作　　者：张天顺 张兆国[2] 张晶秋 黄重华 

机构地区：[1]哈尔滨天龙表面技术研究所 [2]东北农业大学工程学院

出　　处：《电刷镀技术》2003年第3期76-79,共4页

摘　　要：研究全光亮化学镀镍层的主要技术条件，光亮剂的选择，被镀件表面状态对镀层光亮度的影响，合理施镀工艺条件。结果表明：该工艺可获得全光亮镀层，孔隙率低，耐蚀性能好，同时，对镀液的沉积速度、稳定性，装载量、pH值及施镀温度对镀层光亮度的影响均进行了试验。完成TL-013、TL-014两种全光亮化学镀镍磷合金浓缩液配方和完善的施镀工艺。

关 键 词：化学镀镍磷合金 全光亮 工艺研究 化学镀镍层 技术条件 表面状态 工艺条件 光亮镀层 耐蚀性能 沉积速度 施镀工艺 光亮度 光亮剂 孔隙率 稳定性 装载量 pH值 浓缩液 镀件 镀液 

分 类 号：TQ153.2[化学工程—电化学工业] TQ461