磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测  

作　　者：杨武保[1] 

机构地区：[1]中国石油大学(北京)机电工程学院

出　　处：《石油机械》2005年第6期73-76,共4页China Petroleum Machinery

基　　金：石油大学与江汉机械研究所合作规划成立表面工程中心的预研项目

摘　　要：磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。

关 键 词：发展趋势 镀膜技术 磁控溅射技术 预测 脉冲磁控溅射 反应溅射沉积 表面处理技术 非平衡磁场 功能薄膜 薄膜制备 石化行业 耐磨 耐蚀 高纯 电镀 

分 类 号：TQ171.724[化学工程—玻璃工业] TG174.45[化学工程—硅酸盐工业]