贵金属化学气相沉积的研究进展  

Progress of Chemical Vapor Deposition of Precious Metals

作　　者：胡昌义[1] 戴姣燕[1] 陈松[1] 欧阳远良[1] 王云[1] 

机构地区：[1]昆明贵金属研究所,云南昆明650221

出　　处：《贵金属》2005年第2期57-63,共7页Precious Metals

基　　金：国家自然科学基金(50171031);国家高技术研究发展计划(863计划)(2003AA305770);云南省"人才培引"科技计划资助项目(2003PY10)

摘　　要：简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等。An introduction has been given to the chemical vapor deposition of precious metals. The preparation techniques of precious metals by CVD, various precursors used for the CVD and the applications of precious metals films or coatings were reviewed.

关 键 词：金属材料 贵金属薄膜和涂层 化学气相沉积 前驱体 应用 

分 类 号：TG146.3[一般工业技术—材料科学与工程]