制作聚合物光波导的铝掩模工艺  

Aluminum Mask for Fabrication of Polymeric Optical Waveguide

作　　者：赵禹[1] 张大明[2] 刘式墉[2] 衣茂斌[2] 卢东昕[1] 

机构地区：[1]中兴通讯股份有限公司,广东深圳518057 [2]吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室,吉林长春130023

出　　处：《半导体光电》2005年第3期208-211,共4页Semiconductor Optoelectronics

基　　金：国家重点基础研究发展规划项目(TG2000036602);国家高技术研究发展计划资助项目(2001AA312160).

摘　　要：主要针对聚合物波导制备中的关键技术———刻蚀掩模,进行了系统的研究。以铝为例,利用原子力显微镜和光电子能谱,详细地分析并讨论了在聚合物表面溅射镀铝对芯层波导的影响。明确指出,溅射会在聚合物表面形成一层金属包层,从而在器件中引入额外的吸收损耗并对此进行了计算,同时给出解决的办法。最后,总结出最佳的工艺流程。The etching mask for polymeric optical waveguide are systematically investigated. Taking aluminum for example, the influences of sputtering process on the device are discussed using AFM and XPS. The results indicate that the sputtering process could produce a metal cladding on the core surface, resulting in the absorption loss of the device, the loss is calculated and the resolving approach is given. Finally, the optimal fabrication process is summarized.

关 键 词：聚合物 光波导 刻蚀掩模 磁控溅射 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学]