金属表面制备KH-560硅烷膜涂层  

出　　处：《电镀与涂饰》2005年第7期63-64,共2页Electroplating & Finishing

摘　　要：有关专家通过试验制备了有望取代磷化和铬酸盐钝化的KH-560硅烷膜，采用了红外反射吸光谱(RA-IR)分析KH-560硅烷膜的成分和结构、电导率法在线监测硅烷偶联剂水解程度，以涂层拉伸法测试膜的结合强度，研究了影响硅烷膜性能的各项制备工艺条件。

关 键 词：KH-560 硅烷膜 表面制备 涂层 金属 制备工艺条件 铬酸盐钝化 硅烷偶联剂 红外反射 水解程度 在线监测 电导率法 结合强度 拉伸法 膜性能 

分 类 号：TQ460.6[化学工程—制药化工] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]