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作 者:邹军[1] 周圣明[1] 彭观良[1] 杨卫桥[1] 李抒智[1] 周国清[1] 徐军[1] 张荣[2]
机构地区:[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800 [2]南京大学物理系,南京210093
出 处:《光学学报》2005年第7期949-952,共4页Acta Optica Sinica
摘 要:研究了温度梯度法生长的γ-LiAlO2晶体在1100℃下富Li气氛和空气中退火处理后的表面形貌、表面结构以及吸收光谱。发现γ-LiAlO2晶体的抛光面在1100℃空气中退火后变为粗糙面,X射线衍射(XRD)分析表明此粗糙面为单相的LiAl5O8。而γ-LiAlO2晶体的抛光面在1100℃富Li气氛中处理后几乎没有变化。同时对不同气氛下热处理的-γLiAlO2晶体进行了光谱分析,确认了晶片中196nm的吸收峰是由Li空位引起的。(001) γ-LiAlO2 plates grown by temperature gradient technique (TGT) have been annealed in Li-rich and O2 atmosphere at 1100°C/70 h. The surface structure, morphology and absorption spectra were investigated through scanning electron microscopy, X-ray diffraction, spectrophotometer at room temperature. Compared to the plate annealed in Li-rich atmosphere, the surface of the plate annealed in O2-atmosphere became coarse and grew Li-poor polycrystalline (LiAl5O8). With the all spectral analysis, it is confirmed that the 196 nm absorption peak is probably caused by Li vacancies in the plate.
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