对坩埚中硅熔体自由表面流的研究  

作　　者：李英春[1] 万群[1] 秦福[1] 

机构地区：[1]北京有色金属研究总院

出　　处：《稀有金属》1989年第2期168-172,共5页Chinese Journal of Rare Metals

摘　　要：本文采用观察熔硅自由表面上标记物体移动方式的方法研究了坩埚中自由表面层熔体的流动。提出了熔体中杂质传输的新看法。实验结果证实了自由表面层熔体流动对杂质在晶体中分布的影响。

关 键 词：坩埚 硅 熔体 自由表面层 杂质 

分 类 号：O793[理学—晶体学]