光反射法微摩擦测试仪  

Testing Apparatus for Micro-Friction Using Reflection Method

作　　者：于正林[1] 吴一辉[1] 刘治华[1] 贾宏光[1] 黎海文[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,长春130033

出　　处：《中国机械工程》2005年第14期1299-1302,共4页China Mechanical Engineering

基　　金：国家863高技术研究发展计划资助项目(2004AA404250);中国科学院二期创新工程

摘　　要：为研究MEMS的微摩擦需设计一种能够测量微米尺度样品摩擦特性的专用仪器,尤其是能进行微机构摩擦力和正压力测试的大范围、高灵敏度的微摩擦检测装置。给出了一种基于光反射法的微摩擦测试仪的设计方法,介绍了该仪器的设计原理、测力传感器的结构设计、仪器的标定方法。硅测力传感器采用MEMS工艺制作,具有变形量大、线性度好、灵敏度高等优点。实验结果表明,该测试仪能满足微机电系统微摩擦测试的需要。This paper proposed a new reflection method in micro-friction testing, including its design principles, structure of micro-force sensor, demarcating method of the apparatus. The micro-force sensor was made up of silicon slice by MEMS technique, it has some unique advantages that the ordinary sensor hasn't, e.g. large deformation, good linearity, high sensitivity etc. This apparatus can meet the needs of micro-friction testing.

关 键 词：MEMS 微摩擦测试 光反射法 硅传感器 线阵CCD 

分 类 号：TN06[电子电信—物理电子学]