抛光砖面磨抛均匀性浅析  被引量:11

Study on homogeneity of the surface of polished tiles

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作  者:李松[1] 郑超[1] 黄瑞文[1] 

机构地区:[1]广东科达机电股份有限公司,佛山528313

出  处:《陶瓷》2005年第7期19-21,共3页Ceramics

关 键 词:均匀性 磨抛 建筑装饰材料 加工工序 瓷质抛光砖 轨迹分析 镜面效果 瓷质砖 抛光机 摆动式 固定式 磨头 横梁 烧成 上釉 成品 磨块 

分 类 号:TQ174.764[化学工程—陶瓷工业] TU754.4[化学工程—硅酸盐工业]

 

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